纳米压印光刻:Nanoimprin Lithography

II. 纳米压印的光刻模板（Nanoimprint templates）
1. 模板的线度：50 纳米及其以上。
2. 模板中纳米结构的高宽比：1-10，视具体线度和材料而定。
3. 模板材料：硅，石英，介质膜（氧化硅，氮化硅，碳化硅），PDMS，镍，金和银。

• 介观信息技术有限公司宗旨：为中国的微纳技术的发展作贡献

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